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本文標題:"用于坩堝的釉為一種低熔點化合物-礦物顯微鏡"

新聞來源:未知 發布時間:2016-8-16 17:34:21 本站主頁地址:http://www.grahamnapier.com

用于坩堝的釉為一種低熔點化合物-礦物顯微鏡

  烘干、燒結等后續階段。

  1)洗缸。利用抹子、毛刷和泥漿對坩堝外部、底部和口部等的毛邊
進行人工修整。

  2)烘干。分低溫、中溫和高溫三個階段。低溫一般為30~50。E,
高溫大于50%,坩堝烘干時,要經常調換位置,以使坩堝受熱均勻,防
止受熱不勻產生裂紋,烘干后水分應低于2%,300號以上大型坩堝允許
含水3%。

  3)‘刷釉。用于坩堝的釉為一種低熔點化合物,作用是防止坩堝在
高溫燒結時發生氧化,表5—5和表5—6分別是幾種釉料配方和配制方法
,釉料制備時按比例配好,混勻后置于坩堝中蓋好,在爐中加熱至1300
%左右熔融,保持1~2h,待完全無固體時為止,倒出冷卻并水淬,熔
化好的釉料呈半透明玻璃體,顏色以棕黃、棕褐、黃綠為佳,經粉碎后
測試在600~650℃微熔,700~750℃全熔,符合坩堝釉料配制的基本要
求。4)燒結。坩堝待釉料層干后,即可進行高溫(1loO℃以上)燒結,目
的是增強坩堝的密度和機械強度,提高產品質量,坩堝燒結溫度為750
℃以下時,燒氧化煙,750℃以上時燒還原煙,900℃以上高溫時應燒中
性煙或還原煙,當溫度達到規定值(1100℃)時封閉爐門與煙道,保持8h
,然后進行自然冷卻降溫,待爐溫達到40℃時可出窯。

  5)成品。出窯產品按產品標準檢測,合格品分類存放,并貼產品出
廠標志。

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